型号

VK-X3000

类型

控制器

综合倍率

42 至 28800 倍*1

视野范围

11 至 7398 μm

测量原理

激光共聚焦、聚焦变化、白光干涉、分光干涉

激光光源波长

VK-X3100: 半导体激光 404 nm
VK-X3050: 半导体激光 661 nm

最高激光测量速度

面 ：125 Hz、线 ：7900 Hz*2

激光最大输出

0.9 mW

激光等级

2 类激光产品（GB7247.1）

激光受光元件

16 bit 感应光电倍增器

白色光源

白色 LED

白色光受光元件

超高精细彩色 CMOS

激光共聚焦

高度显示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

高度重复精度 σ

VK-X3100: 10 倍 ：100 nm、20 倍 ：40 nm、50 倍 ：12 nm
VK-X3050: 10 倍 ：100 nm、20 倍 ：40 nm、50 倍 ：20 nm

高度准确性

0.2+L/100 μm 以下*3

宽度显示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

宽度重复精度 3σ

VK-X3100: 10 倍 ：200 nm、20 倍 ：100 nm、50 倍 ：40 nm
VK-X3050: 10 倍 ：400 nm、20 倍 ：100 nm、50 倍 ：50 nm

宽度准确性

测量值 ±2% 以内*3

聚焦变化

高度显示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

高度重复精度 σ

VK-X3100: 5 倍 ：500 nm、10 倍 ：100 nm、
20 倍 ：50 nm、50 倍 ：20 nm
VK-X3050: 5 倍 ：500 nm、10 倍 ：100 nm、
20 倍 ：50 nm、50 倍 ：30 nm

高度准确性

0.2+L/100 μm 以下*3

宽度显示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

宽度重复精度 3σ

VK-X3100: 5 倍 ：400 nm、10 倍 ：400 nm、20 倍 ：120 nm、
50 倍 ：50 nm
VK-X3050: 5 倍 ：400 nm、10 倍 ：400 nm、20 倍 ：120 nm、
50 倍 ：65 nm

宽度准确性

测量值 ±2% 以内*3

白光干涉

高度显示分辨率

0.01 nm

宽度显示分辨率

0.1 nm

Surface Topography Repeatability

0.08 nm*4

Repeatability of RMS

0.008 nm*4

分光干涉膜厚测量

重复精度 σ

0.1 nm*4

准确性

±0.6%*4

光学观察

像素数

560 万

转换器

6 孔电动镜头转换器

适用于环形照明的镜头

2.5 倍、5 倍、10 倍

光学变焦

1 至 8 倍

XY 载物台结构

手动运行范围

70 × 70 mm

电动运行范围

100 × 100 mm

电源

电源电压

100 至 240 VAC、50/60 Hz

消耗功率

150 VA

环境抗耐性

环境温度

+15 至 28°C

相对湿度

20 至 80% RH（无凝结）

重量

约 3 kg